PVD镀膜技术的主要特点和优势。

PVD镀膜(离子镀膜)技术的主要特点和优势:和真空蒸发镀膜真空溅射镀膜相比较,PVD离子镀膜具有如下优点:

1.膜层与工件表面的结合力强,更加持久和耐磨

2.离子的绕射性能好,能够镀形状复杂的工件

3.膜层沉积速率快,生产效率高

4.可镀膜层种类普遍

5.膜层性能稳定、安全性高(获得FDA认证)

上述就是为您介绍的有关模具PVD涂层的内容,对此您还有什么不了解的,欢迎前来咨询我们网站,我们会有专业的人士为您讲解。

PVD镀膜技术的主要特点和优势。

中山市利晟纳米科技有限公司坐落于粤港澳大湾区孙中山故里中山市火炬开发区,是一家真空镀膜的生产,研发,集销售为一体的高新科技生产型企业,公司自主研发产品有低温PVD物理气相沉积涂层技术,沉积时工作温度60°-300°具有更高更好结合力,耐磨性、均匀性的薄膜沉积于工件表面,以满足人们对材料表面综合性能的更高要求。

PVD镀膜技术的主要特点和优势。

我们的低温物理气相沉积技术(PVD)是气相沉积技术的一次革命性突破,打破以往人们所认为的只有工艺温度高,涂层与基体的结合力才好的传统观念。低温物理气相沉积(PVD)的应用范围更广,如超微超高精密的工件涂层加工。例如:DLC,WCC,TIN,TICN,TIC,CRN,ALCRN,TIALCRN等等各类单层及复合纳米涂层,尤其是本公司生产的类金刚石DLC涂层1um-6um早已得到了大面积的运用。

中山市利晟纳米科技有限公司主要从事真空镀膜,DLC涂层加工,加硬耐磨涂层等产品生产与销售,我司拥有先进的加工生产设备,技术实力强大,产品质量有保证,价格合理,厂家现货供应,欢迎来电合作.咨询热线15971452571.


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